モノシラン市場：先端半導体・CVD成膜向け高純度シラン需要
NEWモノシラン市場の概要
モノシラン（SiH₄）は、シリコンと水素から構成される高反応性ガスであり、半導体製造や太陽電池のシリコン薄膜形成に不可欠な高純度シランである。特にCVD成膜では高純度シリコン源として使用され、先端ロジック、メモリ、MEMSなどの微細加工を支える。QYResearchによると、世界のモノシラン市場は2025～2031年にCAGR30.0％で拡大し、2031年には53.6億米ドルに達すると予測される。
半導体投資拡大が高純度シラン需要を牽引
2026年の半導体設備投資はAI向け先端ロジック・HBM・先端パッケージングを中心に加速している。SEMIによれば、2026年第2四半期の世界半導体製造装置売上高は405.3億米ドルとなり、前年同期比23％増を記録した。AIインフラ投資が先端製造能力の拡大を促している。
さらに、SEMIは2026年の300mmフロントエンド設備投資を1,420億米ドルと予測しており、前年比25％増となる見通しである。 この設備拡張はCVDなどの成膜工程における高純度シラン需要を中長期的に押し上げる要因となる。
CVD成膜における技術課題
モノシランの競争力は単純な供給量ではなく、超高純度化、供給安定性、安全管理、成膜再現性によって左右される。先端半導体では微量不純物が膜質やデバイス歩留まりへ影響するため、精製工程、分析技術、ガス供給設備を一体化した品質管理が重要である。また、自然発火性・高反応性を持つことから、容器、配管、除害設備、漏洩監視を含む安全設計も不可欠となる。
主要企業と競争構造
主要メーカーにはSK Materials、REC Silicon、Air Liquide、Linde、Inner Mongolia Xingyang Technology、CNS、Taiyo Nippon Sanso、Henan Silane Technology Development、Mitsui Chemicals、SIADなどが含まれる。2024年には世界上位10社が売上ベースで約82.0％の市場シェアを占め、市場集中度は高い。
今後は、半導体メーカーの地域分散に対応した現地生産・供給網構築に加え、長期供給契約、高純度化技術、安全性向上が差別化要因となる。特にAI向け先端半導体の設備投資が続く中、モノシランは「汎用ガス」ではなく、歩留まりとプロセス安定性を左右する戦略的な半導体材料として重要性を増している。
レポートの主要ポイント
本レポートでは、市場規模・成長予測、主要企業の売上・シェア・競争戦略、製品・用途別需要、地域・国別市場、成長要因・リスク、バリューチェーンを体系的に分析する。
【目次】
第1章：市場概要・成長展望
第2章：主要企業・競争分析
第3章：製品カテゴリ別市場動向
第4章：用途別市場動向
第5章：地域別市場分析
第6章：国別市場動向
第7章：主要企業詳細分析
第8章：バリューチェーン・市場構造
第9章：市場洞察・今後の展望
第10章：調査手法・データソース
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モノシラン―グローバル市場シェアとランキング、全体の売上と需要予測、2026～2032
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